| 設置室名 | 主要設備 |
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1F 機能集積化デバイスプロセス室 |
ICPエッチング装置(住友精密) ICPエッチング装置(ULVAC) 反応性イオンエッチング装置(SAMCO) 反応性イオンエッチング装置(ULVAC) XeF2-Siエッチング装置 3元スパッタ装置 プラズマCVD装置(CMOS準拠) プラズマCVD装置(汎用) 4インチ水素アニール炉 4インチ汎用酸化/アニール炉 2インチ酸化炉 |
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2F 共同利用研究室 １ |
汎用蒸着装置 EB蒸着装置 汎用スパッタ装置 両面マスクアライナ コンタクトマスクアライナ 走査プローブ顕微鏡 |
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2F 共同利用研究室 ２ |
紫外可視赤外分光光度計 プリント基板作製装置 スパッタコータ |
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2F 共同利用研究室 ３ |
蛍光寿命測定装置 超伝導マグネット 分光エリプソメータ 汎用プローバシステム 波長可変ホトルミネセンス測定装置 |
